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化工廠全程加熱耐高溫氨逃逸分析監測設備

簡要描述:化工廠全程加熱耐高溫氨逃逸分析監測設備
氨氣檢測使用了基于半導體激光調頻技術的分析儀,可以準確地測量濃度在ppm級的氨氣,因為采用了相敏檢波等技術,大大提高了檢測的準確性。

  • 產品型號:TK-1100
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-10-15
  • 訪  問  量:827

詳細介紹

品牌其他品牌價格區間5萬-10萬
儀器種類在線產地類別國產
應用領域環保,化工,建材,電子,制藥

化工廠全程加熱耐高溫氨逃逸分析監測設備

一、產品介紹
氨逃逸監測系統用于脫硝監控脫硝效率和氨逃逸,可以連續在線監測脫硝反應器氨氣濃度參數。
氨氣檢測使用了基于半導體激光調頻技術的分析儀,可以準確地測量濃度在ppm級的氨氣,因為采用了相敏檢波等技術,大大提高了檢測的準確性。信息更多的通過頻域進行傳輸,所以用簡單的結構即可實現精que測量,在保證測量精度的情況下系統的可靠性更高。
 
二、系統優勢
 
由于工況惡劣,樣氣中含有大量粉塵及飽和水蒸氣,我們采用當前**進的TK-1100型激光氨氣分析儀(基于TDLAS技術)分析微量NH3。系統(包括測量池)采用全程加熱,保證樣品氣體溫度,防止有水析出而對NH3的大量溶解影響分析結果。探頭采用電加熱過濾探頭,在取樣出來就完成樣品的凈化,減小了后級預處理的負荷,大大降低了器件的故障率。系統設計有探頭自動反吹程序及儀表自動標零程序,正常運行后僅需要正常的巡檢即可。傳輸管線采用定制230℃以上高溫復合電伴熱管纜,并控制在2m以內(確保盡量少的NH3吸附),整個預處理全部集成在高溫加熱盒內,系統緊湊以避免長距離傳輸管路對NH3的吸附。
三、技術參數

 指標測量范圍0-10.0ppm,0-50.0ppm 可根據用戶需求設定
響應時間<20s
線性誤差<1%F.S
零點漂移可忽略
重復性1%F.S
標定出廠時已標定,無需定期標定
輸入和輸出信號模擬量輸出4-20mA電流環,750ΩMax,隔離
報警輸出濃度超限、溫度異常、系統故障均報警
繼電器輸出2路(可擴展),觸點負載24V,2A
通訊接口RS485,雙端隔離
工作條件環境溫度(-20)~50
保護等級IP54
工作電壓200V-240VAC,50Hz
電源功耗≤3000W
預熱時間1小時
伴熱溫度180℃~240
 采樣流量2~20L/min(可根據用戶需求定制)
尺寸機柜1000×1200×600mm(默認尺寸)

四、產品特點

1、采用高溫抽取式測量,消除了煙塵、水分等影響因素,保證了測量的準確性和穩定性。
2、采用近紅外可調式激光器,發射出只被測氣體吸收波長的單線光譜,避免了背景氣體交叉干擾。
3、采用2米固定吸收池,相比于折返池,更加穩定,調節更方便。
4、相比于直測式氨逃逸系統,大大減小了鏡頭污染的概率,減少了維護的工作量。
5、相比于直測式氨逃逸系統,可以用隨時標氣來檢驗系統的準確性,有效避免了直測式的標定問題。
6、使用直接吸收絕dui測量法,系統內置標準的NH3參比模塊,實時動態的校準整個系統,系統運行很少會出現信號漂移,所以整套系統無需用戶做任何定期的標定。
7、儀器本身不需要用標氣對儀器進行校正,只需在現場監測光學端窗口鏡片被粉塵污染后迸行簡單拭擦即可。
8、每天可自動進行儀器零點校正,增強了數據的可靠性;
9、具有故障、斷電和檢測數據超標等異常等情況下的自動報警及記錄功能;
10、觸摸屏顯示,操作簡單方便,界面友好。
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化工廠全程加熱耐高溫氨逃逸分析監測設備

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